PVD镀膜进程非常复杂，因为镀膜原理的不同分为许多品种，只是因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以关于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的要素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜标准和薄膜成分而有着不同的意义。

PVD镀膜加工进程的均匀性剖析

薄膜均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

可是假如是指原子层标准上的均匀度，也便是说要完成10A甚至1A的外表平整，是现在真空镀膜中首要的技能含量与技能瓶颈地点，详细操控要素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性：

便是说在薄膜中，化合物的原子组分会因为标准过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。

3.晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题，详细见下。

首要分类有两个大品种：

蒸发堆积镀膜和溅射堆积镀膜，详细则包括许多品种，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。

一、关于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使外表组分以原子团或离子方式被蒸发出来，并且沉降在基片外表，通过成膜进程(散点-岛状结构-迷走结构-层状成长)形成薄膜。

厚度均匀性首要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；

2、基片外表温度；

3、蒸发功率，速率；

4、真空度；

5、镀膜时间，厚度巨细。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，详细能够调控的要素同上，可是因为原理所限，关于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性欠好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度；

2、基片温度；

3、蒸发速率。