手 机：13713888915
电 话：86 0769-8188 8286
邮 箱：13713888915@126.com
地 址：东莞市长安镇乌沙社区海滨路81号4楼
网址 ： www.xmzkkj.com
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但-般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。
真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。具真空镀膜
蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件,如金属、陶瓷塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。pvd镀膜
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量)， 并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到大片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引|起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1 ~ 0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、 Cu、Cr、 Au、Ni等材料。②高频感应加热源:高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1]) 的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。
扫一扫 进入手机网站
