PVD真空镀膜进程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多品种，只是由于都需求高真空度而具有一致称号。所以关于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的要素也不尽相同。而且均匀性这个概念本身也会跟着镀膜标准和薄膜成分而有着不同的含义。

薄膜均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

可是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要完成10A乃至1A的外表平坦，是现在真空镀膜中首要的技术含量与技术瓶颈所在，详细操控要素下面会依据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性：

便是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简略的发生不均匀特性，薄膜，如果镀膜进程不科学，那么实际外表的组分并不是，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，详细见下。

首要分类有两个大品种：

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，详细则包含很多品种，包含真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等

一、关于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使外表组分以原子团或离子方式被蒸发出来，而且沉降在基片外表，通过成膜进程(散点-岛状结构-迷走结构-层状成长)构成薄膜。

厚度均匀性首要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片外表温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时刻，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很简略确保，详细能够调控的要素同上，可是由于原理所限，关于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性欠好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

二、关于溅射类镀膜，能够简略理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使外表组分以原子团或离子方式被溅射出来，而且最终沉积在基片外表，阅历成膜进程，最终构成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为首要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性简略保持，而原子标准的厚度均匀性相对较差(由于是脉冲溅射)，晶向(外沿)成长的操控也比较一般。以pld为例，要素首要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜气氛(低压气体气氛)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时刻。关于不同的溅射材料和基片，最-佳参数需求实验确认，是各不相同的，镀膜设备的好坏首要在于能否准确控温，能否确保好的真空度，能否确保好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，现已比较好的解决了如上所属的问题，可是基本用于实验研讨，工业生产上比较常用的一体式镀膜机首要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。